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纯水水处置惩罚工艺流程图集

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宣布时间：2024-05-16 13:08

常用的一级RO+二级EDI+MB 电子I级超纯水系统工艺设置图

适合于源水硬度高 ，有机物含量高 ，电导率高（小于1000μs/cm） ，要求产水电阻率18～18.2MΩ·cm的超纯水系统

常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺设置图

适合于源水硬度高 ，有机物含量高 ，电导率（小于1000μs/cm） ，要求产水电阻率15～18MΩ·cm的超纯水系统

常用的一级RO+二级EDI电子+MB 电子I级超纯水系统工艺设置图

适合于源水硬度低 ，有机物含量低 ，电导率高（小于1000μs/cm） ，要求产水电阻率18～18.2MΩ·cm的超纯水系统

常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺设置图

适合于源水硬度低 ，有机物含量低 ，电导率高（小于1000μs/cm） ，要求产水电阻率15～18MΩ·cm的超纯水系统图 7是常用的一级EDI全系统组成图 。

常用的产水水质稳固的二级RO+一级EDI+MB电子Ⅰ级超纯水系统组成图

适合于源水硬度低 ，有机物含量高 ，电导率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm时 ，要求产水电阻率18～18.2MΩ·cm的纯水系统

常用的产水水质稳固的二级RO+一级EDI电子Ⅱ级超纯水系统组成图

适合于源水硬度低 ，有机物含量高 ，电导率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm时 ，要求产水电阻率15～18.0MΩ·cm的的纯水系统 。

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